PVD es la abreviatura de deposición física de vapor. PVD es la tecnología de deposición por evaporación de material en un estado de vacío. La cámara de vacío es la condición necesaria para evitar la reacción del material evaporado y el aire. El recubrimiento PVD se utiliza para preparar nuevos productos con valor agregado y características, como color brillante, resistencia al desgaste y reducción de la fricción. El proceso de PVD se utiliza para formar el revestimiento condensando la mayoría de los materiales metálicos y combinándolos con gases, como el nitrógeno. El material de la matriz se transforma del estado sólido al estado gaseoso y se ioniza por la energía térmica recibida en el proceso de arco, o por la energía cinética como en el proceso de pulverización catódica. La tecnología PVD es respetuosa con el medio ambiente y libre de contaminación. En general, el vacío de Huicheng se enfoca en el recubrimiento PVD.

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